射线照相中，使用象质计的主要目的是()

与Ir192相比，Se75放射性同位素的半衰期更短，因此其衰变常数λ也更小一些。

原子序数Z等于原子核中的质子数量。

射线源置于环焊缝的中心位置进行周向曝光时，宜在圆周方向上等间隔放置至少3个像质计。

胶片和增感屏在照相过程中应始终相互紧贴。

像质计是用来检查透照技术和胶片处理质量的，衡量该质量的数值是像质指数，它等于底片上能识别出的最细钢丝的线编号。

透照某一厚度的工件，其使用的管电压或选择的γ射线种类要受到控制，其目的主要是提高底片的对比度，从而保证底片获得规定的质量要求。

对不同类型的电离辐射，只要吸收剂量相同，所产生的生物损伤程度也相同。

新购置或停用较久的x射线机，使用前要训机，其目的是排除气体提高真空度。

显影液温度过高，会导致影像颗粒度粗大。

像质计灵敏度与缺陷检出率是一回事。