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单选题
下列关于集成电路布图设计、专利和著作权的独创性比较,说法错误的是()
A
集成电路布图设计的创造性水平高于专利创造性水平
B
著作权法的独创性标准低于专利法中有关创造性标准
C
集成电路布图设计的独创性要求高于著作权的独创性
D
集成电路布图设计权中的独创性与著作权的独创性有差异
答案解析
正确答案：A
解析：
解析:本题考查集成电路布图设计及其保护概述。集成电路布图设计权中的独创性与著作权的独创性、专利的创造性有差异。D选项正确。集成电路布图设计的创造性水平比著作权的独创性高,比专利创造性水平低。BC选项正确,A选项错误。故本题选择A选项。【思路点拨】创造性:专利>集成电路布图设计>著作权集成电路布图设计及其保护概述
相关知识点：
布图设计与专、著权独创比较
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