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判断题
7.17去除操作过程中,如出现清洗不足现象,可重新清洗。( )
A
正确
B
错误
答案解析
正确答案：B
解析：
**解析：**
在7.17去除操作（通常指半导体制造或精密清洗工艺中的特定步骤，如光刻胶去除或特定污染物清洗）中，如果出现清洗不足的现象，**不能简单地直接重新清洗**。
主要原因如下：
1. **工艺稳定性与一致性**：随意重复清洗步骤可能会改变材料表面的化学状态或物理结构，导致后续工艺参数偏离标准，影响产品良率。
2. **潜在损伤风险**：重复使用化学试剂或物理清洗手段可能会对基底材料造成过度腐蚀、氧化或表面损伤。
3. **标准化流程要求**：在标准作业程序（SOP）中，若发现清洗不足，通常需要先分析原因（如药液浓度、温度、时间等是否异常），并按照规定的异常处理流程进行操作，可能需要返工至特定前道工序或采取其他补救措施，而非单纯地“重新清洗”。
因此，该说法过于简化且不符合严谨的工艺控制要求，故判断为**错误**。
相关知识点：
清洗不足不可重新清洗
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