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热电中控检验工段题库
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多选题

配位滴定法中消除干扰离子的方法有( )

A
配位掩蔽法
B
沉淀掩蔽法
C
氧化还原掩蔽法
D
化学分离
E
 

答案解析

正确答案:ABCD

解析:

配位滴定法中消除干扰离子的方法有( ) A.配位掩蔽法 B.沉淀掩蔽法 C.氧化还原掩蔽法 D.化学分离 E.  答案:ABCD 题目解析: 配位滴定法中,干扰离子的存在可能影响准确的滴定结果。配位掩蔽法通过加入能够与干扰离子形成稳定络合物的掩蔽剂,从而将其“掩蔽”,防止其与滴定剂发生反应,从而达到消除干扰的目的。选择A是因为配位掩蔽法是常用的一种方法。 沉淀掩蔽法是通过加入能够与干扰离子形成难溶沉淀的物质,将干扰离子沉淀下来,从而分离出来,达到消除干扰的目的。选择B是因为这是另一种常见的消除干扰的方法。 氧化还原掩蔽法是通过使干扰离子发生氧化还原反应而被掩蔽,防止其与滴定剂发生反应,从而实现消除干扰的目的。选择C是因为这也是一种有效的消除干扰的手段。 化学分离是通过化学反应将干扰离子与被滴定物质分离,从而达到消除干扰的目的。选择D是因为这是另一种常见的干扰消除方式。
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