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单选题
572.半导体三极管工作过程中( )。(1.0分)
A
发射区杂质浓度大于基区杂质浓度
B
发射区杂质浓度小于基区杂质浓度
C
发射区杂质浓度等于基区杂质浓度
D
发射区杂质浓度大于集电区杂质浓度
答案解析
正确答案：A
解析：
半导体三极管工作过程中( )。
答案解析：在半导体三极管中，发射区杂质浓度通常是大于基区杂质浓度的，这是为了实现放大功能。因此，正确答案是 A. 发射区杂质浓度大于基区杂质浓度。
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