4.在直接接触法直探头探伤时,底波消失的原因是( )

A. 　缺陷的性质和大小

B. 　缺陷的形状和取向

C. 　缺陷回波的大小和超声传播的时间

D. 　以上都是

A. 　工作频率

B. 　晶片尺寸

C. 　探测深度

D. 　近场长度

A. 　 探伤效率较低

B. 　 易出现干扰缺陷评定的杂乱显示

C. 　 连续法探伤的灵敏度低

D. 　 只可在外加磁场的作用下观察磁痕,不可在撤去外加磁场后观察磁痕

A. 　 润湿剂

B. 　 乳化剂

C. 　 分散剂

D. 　 防锈剂

A. 　 显像剂一般会发出很强的荧光

B. 　 显像剂在检验时提供一个与显示相反衬的背景

C. 　 去除多余渗透液后显像剂把保留在不连续性中的渗透液吸出来

D. 　 显像剂有干的也有湿的
PAGE
PAGE 12

A. 　 横波质点振动方向对缺陷反射有利

B. 　 横波探伤杂波少

C. 　 横波的波长短

D. 　 横波指向性好

A. 　球面

B. 　平面

C. 　柱面

D. 　以上都可以

A. 　 静电法

B. 　 超声法

C. 　 磁粉法

D. 　 射线法

A. 　 射线能量增大成像质量下降

B. 　 射线能量减小成像质量下降

C. 　 射线能量增大成像质量提高

D. 　 射线能量减小成像质量提高

A. 　取决于脉冲发生器,探头和接收器的组合性能

B. 　随频率的提高而提高

C. 　随分辨率的提高而提高

D. 　与换能器的机械阻尼无关