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单选题
1260.关于集成电路布图设计保护性质,下列表述正确的是()。
A
集成电路布图设计权中的复制权和著作权中的复制权相同
B
集成电路布图设计权具有物质性、专有性、地域性、时间性和可复制性
C
集成电路布图设计的创造性水平均比著作权的独创性和专利创造性水平低
D
集成电路布图设计权中的独创性与著作权的独创性、专利的创造性有差异
答案解析
正确答案：D
解析：
解析:根据集成电路保护国内立法和集成电路国际条约,集成电路布图设计权具有无形性、专有性、地域性、时间性和可复制性。集成电路布图设计权中的复制权和著作权中的复制权有差异。故AB两项错误。《华盛顿条约》中使用“复制”一词与《伯尔尼公约》中使用“复制”一词来界定版权所有人有权授权的行为有些类似,但是含义不完全一样。集成电路布图设计权是通过光学、电子学或其他方式复制,强调的是重复制作,类似于实施行为。集成电路布图设计权中的独创性与著作权的独创性、专利的创造性有差异。集成电路布图设计的创造性水平比著作权的独创性高,比专利创造性水平低。故C项错误,D项正确。
相关知识点：
布图设计保护性质差异
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