单选题
41.如何避免试样产生浮雕现象:( )
A
磨样阶段保证磨面高质量
B
抛光过程中多次添加冷却水,保持抛光布湿度
C
抛光时间和抛光力度要适当,避免用力过大且长时间抛光
D
浸蚀要适度
答案解析
正确答案:C
解析:
好的!让我们一起来深入理解这道单选题。首先,我们明确一下背景知识:题目中的“试样产生浮雕现象”通常是指在材料科学或金属学中对样品表面进行制备时可能出现的问题。当试样在抛光或浸蚀过程中处理不当,可能会导致样品表面出现不均匀的现象,这种现象被称为“浮雕”。
接下来,我们逐一分析每个选项:
A: 磨样阶段保证磨面高质量
- 这个选项强调的是磨样的质量,虽然磨样是制备试样过程中很重要的一个步骤,但它主要影响的是试样表面的平整度和平行度,并不是直接导致浮雕现象的原因。
B: 抛光过程中多次添加冷却水,保持抛光布湿度
- 保持抛光布的湿度确实有助于提高抛光效率和效果,但过度湿润反而可能引起其他问题(如腐蚀),并不能直接解决浮雕现象。
C: 抛光时间和抛光力度要适当,避免用力过大且长时间抛光
- 这是一个关键点!如果抛光时间过长或者力度太大,会使得某些部分被过度去除,从而形成凹凸不平的表面,即所谓的“浮雕”。因此,合理控制抛光时间和力度可以有效避免浮雕现象。
D: 浸蚀要适度
- 虽然适当的浸蚀对于揭示材料微观结构非常重要,但如果浸蚀过度,也可能会造成表面损伤,但通常来说,它与浮雕现象的关系没有抛光参数设置不当那么直接相关。
为了更好地理解这一点,我们可以做一个形象的类比。想象你在做蛋糕装饰,如果你用糖霜涂得太厚并且反复涂抹,最终结果可能是某些地方糖霜堆积得很高,而有些地方几乎没有糖霜——这就是一种“浮雕”效果。同样地,在材料科学中,如果我们不对抛光过程加以控制,就可能导致类似的结果。
综上所述,正确答案是C:“抛光时间和抛光力度要适当,避免用力过大且长时间抛光”。希望这个解释对你有所帮助!
相关知识点:
避浮雕要控制抛光力度等
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