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4,538
单选题

2015年,我国中芯国际公司加工集成电路线条间隔的工艺水平是:()。

A
14-16纳米
B
16-24纳米
C
24-30纳米
D
30-35纳米

答案解析

正确答案:C

解析:

题目解析 5年前,我国中芯国际公司加工集成电路线条间隔的工艺水平是:24-30纳米。 这道题在描述我国中芯国际公司5年前的集成电路制程水平。工艺水平通常以纳米为单位来衡量,表示制程技术的精细程度。从给定的选项中,"24-30纳米"是唯一在范围内的选项,因此是正确答案。

相关知识点:

15年中芯国际工艺24 - 30纳米

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