AI智能整理导入 AI智能整理导入
×
首页 题库中心 化学检验工中高级试题 题目详情
CA603800A3C00001DBBC1FACD7D0C000
化学检验工中高级试题
3,727
多选题

121.EDTA配位滴定法,消除其他金属离子干扰常用的方法有()。

A
 加掩蔽剂
B
 使形成沉淀
C
 改变金属离子价态
D
 萃取分离

答案解析

正确答案:ABCD

解析:

EDTA配位滴定法,消除其他金属离子干扰常用的方法有()。答案: ABCD 解析: 选项A: 加掩蔽剂。掩蔽剂是一种可以与干扰离子形成稳定络合物的物质,通过加入掩蔽剂可以掩蔽干扰离子的影响,使其不干扰EDTA配位滴定的结果。 选项B: 使形成沉淀。有时候可以通过加入特定的试剂,使干扰离子与某些沉淀剂反应,沉淀下来而不参与滴定反应,从而消除干扰。 选项C: 改变金属离子价态。有些干扰离子在不同的价态下与EDTA的络合能力不同,可以通过改变其价态来减少其干扰。 选项D: 萃取分离。使用特定的有机溶剂可以将某些金属离子从溶液中萃取出来,实现分离。 这三道题主要涉及到EDTA配位滴定中金属离子指示剂和干扰因素的应用和处理方法。正确理解和应用这些概念对于化学检验工作是非常重要的。

相关知识点:

EDTA滴定,消除干扰法全记

化学检验工中高级试题

扫码进入小程序
随时随地练习

关闭
专为自学备考人员打造
试题通
自助导入本地题库
试题通
多种刷题考试模式
试题通
本地离线答题搜题
试题通
扫码考试方便快捷
试题通
海量试题每日更新
试题通
欢迎登录试题通
可以使用以下方式扫码登陆
试题通
使用APP登录
试题通
使用微信登录
xiaochengxu
联系电话:
400-660-3606
xiaochengxu